阿斯麥、尼康等光刻機巨頭的官方賬號雖未直接發聲，但旗下高管的帖子、行業分析師的解讀報告已形成圍剿之勢。
他們字裡行間都在渲染“深藍半導體技術威脅論”，暗示其光刻機存在“專利侵權”“性能未經驗證”等問題。
海外巨頭顯然是鐵了心要將深藍半導體扼殺在搖籃裡，一邊切斷部件供應，一邊發動輿論抹黑，雙管齊下試圖摧毀市場信任。
不過，此時的輿論還都在網絡上，並沒有登錄正規媒體。
當然，輿論在發酵，被大媒體關注也隻是時間問題。
“老一套手法，毫無新意！”楚千瀾嗤笑一聲，便不再關注。
雙方立場不同，爭端已經不可避免，但深藍半導體短時間不可能邁入海外市場，也沒有必要與對方爭奪海外輿論市場的主導權。
隨著時間推移，海外圍剿的消息順著科技媒體的報道、行業社群的討論，迅速蔓延至國內。
第二天一早，《半導體芯科技》率先刊發深度分析，標題直指核心《海外巨頭聯手絞殺！深藍半導體光刻機遭遇供應鏈封鎖與輿論圍剿》。
文中詳細梳理了阿斯麥、尼康等企業的隱性施壓，以及國外部件供應商的集體斷供行為。
不過，文章中沒有任何確切證據，隻有海外社交媒體的一些論文截圖。
即便如此，依舊在國內網絡引起不小的震動。微博、論壇等平台的相關話題討論量呈爆炸式增長。
“海外巨頭也太狠了！國內剛研發出45納米光刻機，他們就要聯合絞殺，這是怕我們打破壟斷啊！”
“這消息是真的還是假的？那文章裡的證據著實沒有說服力，還是等兩天再看吧！”
“深藍半導體的供應鏈不會真出問題吧？國內替代部件能跟上嗎？”
“心疼深藍半導體！自主研發好不容易有了突破，就被這麼針對性打壓，資本的嘴臉太難看了！”
“之前還以為深藍半導體研發出45納米光刻機是炒作，現在看國外巨頭的反應，已經可以確定，這消息是真的了！”
……
網絡上的討論愈發熱烈，質疑與擔憂交織，少數彆有用心的水軍借機散布“深藍半導體技術造假”“國產替代必敗”的負麵言論，試圖進一步擾亂市場信心。
就在輿論陷入混沌之際，四家國內企業幾乎同時發布公告，引爆全網。
恒川機械在公告中詳細披露，其為45納米光刻機定製的磁懸浮工作台、精密機械臂已完成三輪極限測試，重複定位精度達±0.05微米，完全滿足量產要求，首批4套核心部件將於12月25日前交付；
華宇特氣則亮出12種半導體核心特種氣體的檢測報告，純度均突破99.999，符合生產45納米芯片要求，已全麵供應深藍半導體，替代進口材料；
先鋒晶圓的8英寸矽片良率已穩定在92，12英寸矽片研發進入收尾階段，將按深藍半導體需求優先級供貨，確保芯片產能；
寒星材料更是公布了為極紫外光源定製的特種塗層材料參數，耐高溫、抗腐蝕性能較進口產品提升15，已實現規模化生產，可隨時響應訂單。
在接下來的半天裡，又有四十餘家國內配套企業密集發聲，他們都是獲得深藍半導體訂單，為光刻機供應核心部件的廠商。
他們的產品從核心機械部件到特種材料，從光學元件到電子模組，全方位印證了深藍半導體生產光刻機的底氣與事實。
隨著國內企業密集發聲，如同一場精準的輿論反擊戰，瞬間扭轉網絡上的混亂局麵。
恒川機械的磁懸浮工作台精度數據、華宇特氣的高純氣體檢測報告、先鋒晶圓的矽片良率數據……一份份詳實的證據鏈，如同重錘般擊碎了“技術造假”“國產替代必敗”的謠言。
微博上，“深藍半導體布局國產光刻機供應鏈”的話題飛速攀升，短短兩小時便衝上熱搜榜首，相關話題閱讀量突破1億。
“太燃了！深藍半導體為了生產光刻機，竟然同時給四十多家企業下訂單！真的無法想象，深藍半導體是如何研發出光刻機的？”
“恒川機械的±0.05微米定位精度，比國外同類產品還強，已經追平國外先進水準，這技術實力絕了！”
“以前總說國產技術不行，現在看看，從核心部件到特種材料，我們也是非常有競爭力的！”
“海外巨頭想卡脖子？沒門！這麼多國內企業兜底，深藍半導體的光刻機量產穩了！”
“那些散布謠言的水軍可以閉嘴了，事實擺在眼前，國產光刻機不是炒作，是實打實的技術突破！”
……
網絡輿論徹底沸騰，國內科技圈、製造業從業者紛紛自發聲援。
某航天領域工程師發帖感慨：“深耕製造業的都懂，±0.05微米的定位精度意味著什麼。這背後是精密加工、材料科學、控製算法的全麵突破。
深藍半導體能整合這麼多國內企業的頂尖技術，搭建起完整供應鏈，比光刻機本身更值得驕傲！”
水木大學微電子實驗室官微發文：“國產設備的崛起，讓科研成本大幅降低，更能讓學生接觸到自主核心技術，這才是最有價值的傳承。”
還有網友整理出“國產光刻機供應鏈圖譜”，將恒川機械等四十餘家配套企業的技術亮點一一標注，配文“這不是一家企業的勝利，是整個國產製造業的逆襲”，短短半天轉發量突破10萬。
在全民聲援的熱潮中，深藍半導體的官方公告終於重磅發布。
公告開篇便直擊核心：“近期，部分海外供應商受國際勢力施壓，無故暫停核心部件供應，企圖阻礙國產光刻機研發進程。但我們早已布局全國產化替代方案，目前所有關鍵部件均已實現國內自主供應，45納米光刻機量產不受任何影響。”
公告詳細披露了45納米光刻產線的核心參數：“整機核心部件國產化率92，極紫外光源、磁懸浮工作台等關鍵模塊性能對標國際先進水準。”
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