14號，情人節。
介於昨天晚上曲某人與佐佐木元聊的非常投機，還達成了許多默契。原本參觀nec丸之內總部大樓的計劃，變成了參觀nec中央研究所。
從名字就能看出來，“中央研究所”是nec旗下一係列研究機構中規模最大的，也是成立最早的。
49年創立，從最初的材料、器件，逐漸拓展到計算機係統和軟件。
75年從東京遷至神奈川縣川崎市，又成立了“未來技術研究室”，專注於十到三十年後的顛覆性技術。
小日子的“縣”相當於咱們的省，“市”相當於地級市或縣級市。從麵積上看，“縣”相當於市，“市”相當於縣）
76年開發出小日子首款量產的商用采用7.5微米工藝，集成2500個晶體管的4位微處理器μ4。
77年開發出“溝槽電容器”結構，使存儲密度提升4倍，成功研製64kdra。
78年開發電子束光刻技術，將集成電路線寬從5微米縮減至1微米，突破了當時的技術極限。
曲卓這次參觀的重點，就是電子束光刻技術。
不但“摸”到了nec自己的獨立項目，還“摸”到了尼康和ib通過專利共享，合作開發的ncre和尼康合作，在1980年推出的e3電子束光刻
ncreb1a的圖片沒找著，應該跟同源同代的e3差不太多）
這玩意支持?1000萬像素並行投射，將線寬推進到了0.10.5微米100500納米）。?
而時下老美gca最先進的ds4800步進式光刻機，最小線寬是0.5到1微米。
當然了，電子束光刻機雖然精度更高，但和光學光刻機是沒法比的。
ncreb1a一小時隻能處理幾平方厘米的晶圓，ds4800每小時可以處理接近兩百片晶圓。
普通的光學掩模成本也就大幾千到一萬多美元，電子束用的氮化矽掩模成本在十五到二十萬美元。
所以，電子束光刻機隻能用來做研發、小批量生產和製作精確模板，大規模製造還是得指望光學光刻機。
可但是，這玩意雖然對量產來說沒有任何意義，但對曲某人有意義呀！
直接把他“購買力”從386推進到了奔騰四，加上倍頻技術，將主頻從級直接拉到了g級……
小日鬼兒之所以大方的讓曲卓看他們“寶貝”，當然不是為了炫耀，或者證明什麼。
電子束光刻機有一項核心需求——處理?tb級版圖數據?。
而處理?tb級版圖數據?，需要依賴高性能計算係統進行圖形分割和拚接。
之前港島的技術發布會上，ong係列計算機在顯示增強卡的加持下，表現出了強大的圖像處理能力，正是電子束光刻機所需要的。
佐佐木元當時就在現場，憑直覺判斷，如果有ong計算機，ncreb1a的處理速度至少提高十倍。
從每小時幾平方厘米，提高到四到五片晶圓。
雖然依舊遠遠不及光學光刻機，但起碼小批量生產速度提上去了。完全可以勝任一些精密設備的高製程特種芯片加工。
發布會過後，nec的代表第一時間聯係東大，表達了采購的意願。
得到的答案是：這隻是技術展示會。想要購買，需要等到與戴英as的合作工廠投產之後。
後麵小日子又通過其他渠道聯係東大高層，再次表達了購買意願。得到的答案依舊是，需要等到與戴英的合作工廠開工。
因為，雙方有協議，內陸的ong係列計算機隻能用於滿足內需，外售屬於違約行為。