因為王老爺子的留英背景，這個組的溝通算是好的，已經完成了初步磨合……
二組負責掩模台與同步控製。
英方帶隊的是彼得?史密斯，劍橋大學教授，工程院院士，步進電機控製算法權威，以前做過劍橋與ib的合作研究員，實踐經驗很豐富。
內陸方麵派出的是機床研究所研究室主任徐性初。這位以後會是國內專業領域的牛人，但眼下才四十多歲。雖然技術底子很不錯，但對上國際權威，被壓的根本抬不起頭……
三組負責光刻膠材料與工藝。
英國佬來的是帝國理工高分子材料界麵專家弗蘭克?瓊斯，在光刻膠黏附性研究方麵有著不俗的造詣。
內陸方麵來的是高分子化學專家林尚安。另外，物質結構所盧所長協助材料表征研究。
兩邊各有所持，這幾天一直在試探性的接觸，但都有所保留，屬於半冷不熱的狀態……
四組負責晶圓承載台設計。
這方麵的工作咱們已經完成的差不多了，隻有接觸式對準裝置套刻精度還差一些。
戴英方麵來的是位大牛，劍橋大學教授，兩院院士亞曆克?布魯斯。上來就把咱們的設計從頭至尾的挑了一遍毛病，可以說批的一無是處。
關鍵是，隻挑毛病不說解決辦法，擺出一副“我等著你們求我的架勢”，把內陸這邊從盧所長到下麵的技術員氣的鼓鼓的……
五組負責光學對準係統開發與曝光後缺陷檢測。
戴英那邊是牛津的科林?謝潑德教授，共聚焦顯微鏡係統的研發者。眼下雖然名聲不顯，但絕對是專業領域的牛人。
東大派出的是微電子所的老李同誌，算是國內半導體檢測技術開拓者，倆人各自帶的團隊屬於互補。
但溝通不大順暢，處於矜持的試探性接觸和了解中，合作還無從談起……
六組負責真空與環境控製係統。
戴英來的是工程院的休?戴維，同時也是倫敦大學教授，真空係統集成專家，參與過歐洲早期光刻設備研發。
內陸來的是物理所的金建中，國內真空技術奠基人，國內的超高真空技術就是他帶隊搞出來的。
這兩位牛人倒是挺融洽，問題是過去幾天隻顧著技術交流了，正事兒一點沒乾。
行吧，磨刀不誤砍柴工……
最後一組負責機械結構與控製係統聯調，和故障診斷流程建立。
戴英帶隊的是皇家學會的約翰?賴特，係統工程專家，主導過多學科技術整合。
內陸來的是45所的張總工，全程參與了我們現役光刻機的裝配工作，技術沒的說，經驗也很豐富，就是表達能力有點一般。
約翰?賴特做過技術整合，是一幫英國佬裡少見的，比較開朗熱情，懂得開玩笑，很友善的存在。
但正是因為他的這種“異常”表現，引發了張總工的高度警惕。覺得事有反常，生怕對方帶有險惡的目的。
倆人有點剃頭挑子一頭熱的意思……
聽了趙小軍的情況介紹，曲卓屬實沒太當回事。主要是陌生造成的，再就是缺乏緊迫感。
至於每個組誰是老大誰是老二……那玩意沒有強行任命的，屬於各憑本事。哪個能讓更多的人信服，哪個就是老大。
都是具有研發與實踐經驗的成熟科研人員，隻要有人幫所有人捋順一下流程，再稍微一推，整個項目組就能運轉起來。
像亞曆克?布魯斯那夥兒的也沒大問題。
其它組運轉起來，他就算維護自己戴英兩院院士的驕傲，也不會讓晶圓承載台這一塊，拖了整個項目的後腿。
隻要能學到真本事，忍受一下他的高傲和壞脾氣又能怎麼樣……
一如既往的中餐加炸魚、烤肉、薯條組成自助晚餐過後，所有人到大會議室集合。
曲某人沒有半句廢話，在兩塊白板上羅列出gca的ds4800和小日子尼康剛推出的nsr1010g的具體參數。
從光源波長到孔徑、分辨率、定位精度、曝光效率、對準方式、光刻膠類型、缺陷率和tbf，進行全方位的對比。
隨後又在第三塊板子上，羅列出石壁實驗室步進式光刻機的預設參數。哪些問題已經解決了，哪些問題等待解決。
然後，問眾人：“夥計們，ds4800將主流製程從3微米推進到了1.5微米。尼康nsr1010g更進一步，1.3微米將會走出實驗室。
而且，我有可靠的消息，他們正在全力攻關，意圖將縮小倍率從10比1調整為5比1。
知道那意味著什麼嗎？
一旦他們取得成功，主流製程大概率被推倒1微米，甚至是800納米。
我可以告訴你們，我的團隊，已經做好了基於800納米製程的，集成了浮點運算單元的新設計。
現在，請你們明確的告訴我。還需要多長時間，我才能等到你們的成果？”
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