7月18日，中官村高新園區。
上午10點，PGCA董事長孫健、副董事長艾德裡安、中方總經理李昌傑、美方總經理布羅迪，陳副市長、高新園區李主任、鯤鵬軟件集團（PENG）總裁張吉林、順圓地產集團總裁張斌、京城半導體集團（BSEC）總裁魏建國、國智計算機（集團）公司總裁劉宏宇、順圓地產（華北）集團總裁何明濤、順圓地產（京城）集團總裁程發寶、NVIDIA董事長黃仁遜、ATI董事長何國元、3dfx總裁席勒斯、淘寶控股（京城）公司總裁朱俊鬆、GCA董事阿密特、GCA董事阿爾特曼，以及參加建設這條65nm半導體生產線工程的員工代表和媒體記者等一百多人，參加全球第一條65nm半導體生產線量產儀式。
GCA董事阿密特來自Intel，GCA董事阿爾特曼來自AMD。
在PGCA半導體園區剩下的120畝土地上，順圓地產（京城）集團1200多名員工按照規劃，從去年6月22日開工，經過10個多月緊張有序的施工，於今年5月10日，這條投資17.85億美元的65nm半導體生產線工程完工，經過2個多月的試生產，於今日公開宣布量產，對外代工生產65nm製程工藝的高端芯片。
中方總經理李昌傑主持量產儀式。
陳副市長、李主任表示祝賀。
&n半導體生產線在PGCA半導體集團量產，願意為全球芯片研發公司代工生產高端芯片。”
啪啪……
董事長孫健代表PGCA講話。
現場響起熱烈的掌聲。
全球半導體發展日新月異，一步先步步先，由於193nm波長光源的世界性難題遲遲不能被攻克，光刻機的發展停滯了近10年，京城半導體集團才有了追趕GCA、Nikon、Canon、ASML等全球光刻機重要廠商的機會，國智半導體集團才有了追趕Intel、AMD電腦CPU等重要部件的機會。
&n製程工藝浸沒式光刻機TWINSCANBNT:2250i的問世，不僅是全球光刻機行業劃時代的重要事件，也對全球半導體行業的發展承前啟後，一舉奠定了BSEC在全球光刻機領域的技術實力超過ASML，成為全球第三。
&n半導體生產線在PGCA半導體園區量產，孫健苦心積慮，前後布局了近二十年，終於可以舒一口氣了。
BSEC光刻機研究院今年3月，已經研發成功45nm製程工藝的浸沒式光刻機，避免刺激美國，密而不發。
雖然國智、Intel和AMD先後都研發成功新一代CPU：GZCX5、Core2Duo、AthlonX2，製程工藝都要求65nm製程工藝，但全球沒有一條65nm製程工藝半導體生產線量產，到如今都沒有新一代CPU進入市場。
&n半導體生產線在PGCA半導體園區量產，正是GZCX5超過Core2Duo、AthlonX2的良機，但精明的孫健不會為了國智半導體集團的短期利益而得罪美國。
2004年，PGCA的營業收入97.05億美元（901.63億元），同比增長32%；淨利潤21.43億美元（177.01億元），同比增長35%；總資產107.52億美元（888.12億元），淨資產86.74億美元（716.47億元）。
PGCA為了今年下半年在納斯達克交易所上市融資，連續三年的年報交給滬海德勤會計事務所審核通過。
PGCA不僅是是國內最大的一家中美合資企業，也是全球最大的芯片代工企業，第一大股東PENG是全球電腦軟件行業的龍頭企業之一，第二大股東GCA是全球光刻機行業的龍頭企業；Intel和AMD還是GCA的大股東之一，各擁有一名董事，有資格要求PGCA為他們代工生產Core2Duo、AthlonX2，
孫健也沒有資格和膽量挑戰美國的權威，不然他和家人就不要出國了。
去年6月17日，京城半導體集團（BSEC）公開宣布，旗下的京城光刻機研究院經過近十年的研發，研發成功全球第一款65nm製程工藝浸沒式光刻機TWINSCANBNT:2250i，將在中國專利局和國際專利局申請多項公司發明專利，麵向全球供貨，統一售價1500萬美元。
孫健親自向Intel總裁歐德寧和AMD總裁梅德克發出邀請，兩家不打算使用這條65nm半導體生產線生產最新一代的CPU：Core2Duo和AthlonX2，出於禮節，分彆派GCA的董事阿密特和阿爾特曼前來現場祝賀。
公開告訴全球芯片研發公司，PGCA這條65nm半導體生產線不僅為國智半導體集團和曙光通訊集團生產最新一代的電腦和手機CPU等核心部件，也願意為Intel、AMD、NVIDIA、ATI、3dfx等全球芯片研發企業生產最新一代的CPU、GPU等核心部件。
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一視同仁！
PGCA半導體（鵬城）集團投資17.85億美元在鵬城高新園區建設的另一條12英寸晶圓、65nm製程工藝的半導體生產線，已經進入設備安裝調試階段，將於9月試生產。
曙光東芝晶圓公司（TTFAB）投資18億美元在浦東新區高科技園區建設的一條65nm製程工藝半導體生產線也將於9月試生產，到年底，國內將有3條65nm製程工藝的半導體生產線量產，對外代工芯片生產，搶先占領國內外65nm製程工藝的芯片代工市場。
去年7月，Intel、AMD、台聯電分彆從京城半導體集團定購了一條65nm製程工藝半導體生產線；工程建設進度最快的是台聯電，計劃於今年11月試生產；Intel、AMD的生產線計劃於明年1月試生產。
&n製程工藝半導體生產線的設備安裝調試和人員培訓，知道每家的進度。
去年12月，ASML雖然宣傳研發成功XT1400i浸沒式光刻機，但因為侵犯了BSEC正在申報的純淨水介質的公司發明專利，由於這項專利到如今還沒有得到國際專利局的專利技術證書，BSEC也不能授權，XT1400i浸沒式光刻機也不敢量產，如今處於停滯狀態。
GCA擁有EUV激光器研發成功和EUV原型機，借助於BSEC浸沒式光刻機的技術，於今年1月，研發成功GCA65nm製程工藝的浸沒式光刻機TWINSCANGNT:2450i。
去年12月，Nikon研發成功全球第一台157nm乾式光刻機試驗機，展示了Nikon在光學技術和光刻機係統研發方麵的強大實力，有助於鞏固其在半導體光刻設備領域的地位，吸引更多芯片製造企業的關注和合作；還沒有聽說Nikon65nm乾式光刻機量產的消息。
（本章完）
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