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胡正明：微電子學家，美國國籍。祖籍江蘇省金壇市城西馬乾村。1947年7月出生於中國北京。

1968年臺灣大學電機系畢業，獲學士學位。

1969年赴美國加州大學伯克利分校留學，1970年獲碩士學位。1973年獲美國加州大學伯克利分校博士學位。

胡正明是微電子微型化物理及可靠性物理研究的一位重要開拓者，。

對半導體器件的開發及未來的微型化做出了重大貢獻。主要科技成就為：領導研究出。<osfet電晶體的複雜物理推演出數學模型。

該模型於1997年被國際上38家大公司參與的電晶體模型理事會選為設計晶片的第一個且唯一的國際標準。

發明了在國際上極受注目的finfet等多種新結構器件。

他還是鰭式場效電晶體的發明者，解決了晶體做薄後的漏電問題，並向上發展，使晶片內構從水平變成垂直。

從而打破了原來英特爾對全世界宣佈的將來半導體的限制。

當然，胡正明所做的貢獻並不止這些，還有很多很多。僅在美國申請的各項專利就超過百項。

不過其中很大一部分都是1990年後創造的。

現在的胡正明還沒有達到他科研事業和榮譽的巔峰。儘管如此，他已經是享譽世界的微電子學家了。

<c傑出講座教授等。

兩人握了下手後，胡正明笑了笑，略顯疑惑的說道：“請恕我直言，不知衛先生找我有什麼事？”

也難怪胡正明奇怪。

在此之前他跟衛雄從未謀面，在生活和工作上貌似也沒有任何交集，那衛雄突然跟他打招呼幹嘛？

難道僅是出於禮貌？

他雖然自認在微電子方面有一些成就，但這些成就顯然還不至於讓一個世界首富對他如此客氣。

衛雄微微一笑，答非所問：“胡教授這次來紐約是……”

胡正明也不在意，說道：“明天在紐約大學有一個學術講座，之後還有一些其他事要處理。”

正好！

衛雄心裡暗道了一聲，開口說道：“不知這兩天胡教授有沒有時間，我有點事想跟你談談。”

聞言，胡證明眉頭微微一皺。

他是搞微電子的，衛雄說有事跟他談，顯然是有關微電子方面的，至於具體是什麼他卻是猜不出來。

沉吟了下，說道：“明天下午三點，如何？”

不管衛雄邀請他的目的是什麼，他都沒辦法拒絕，否則等於是直接扇衛雄的耳光，這明顯沒必要。

衛雄點頭道：“那就明天下午三點。”

接著從站在他左後側的崔慕青手上接過一張名片：“這是我的名片，到時候你可以打我的電話。”

胡正明接過名片看了看，鄭重的收進了口袋：“好的。”

……

晚餐衛雄是在約瑟夫家裡吃的，晚餐後兩人來到書房，談話的內容主要集中在日本的銀行業。

隨著1990年元旦，經濟泡沫的破裂。

日本股市和房市一夜之間崩潰，而且因為衛雄的干預，這種崩潰遠比原來的歷史更加嚴重。

且直接波及到了實體經濟。